主要功能:
采用磁控濺射沉積與離子刻蝕相結(jié)合,對專用復合材料進行內(nèi)表面鍍膜處理,沉積致密金屬涂層。設備配置4套柱狀磁控濺射源,設計有電動頂升系統(tǒng),可以同時對4件柱狀管材產(chǎn)品進行鍍膜沉積工藝處理,實現(xiàn)復合材料內(nèi)表面涂層工藝的小批量加工。
技術參數(shù):
真空室:?650×750mm
極限真空:≤2×10-4Pa
沉積速率:≥2μm/h
產(chǎn)品規(guī)格:?145mm×500
產(chǎn)品數(shù)量:4件/爐