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專用復合材料磁控濺射鍍膜設備

主要功能:

采用磁控濺射沉積與離子刻蝕相結(jié)合,對專用復合材料進行內(nèi)表面鍍膜處理,沉積致密金屬涂層。設備配置4套柱狀磁控濺射源,設計有電動頂升系統(tǒng),可以同時對4件柱狀管材產(chǎn)品進行鍍膜沉積工藝處理,實現(xiàn)復合材料內(nèi)表面涂層工藝的小批量加工。

技術參數(shù)

技術參數(shù):

真空室:?650×750mm

極限真空:≤2×10-4Pa

沉積速率:≥2μm/h

產(chǎn)品規(guī)格:?145mm×500

產(chǎn)品數(shù)量:4件/爐

地址:成都市雙流區(qū)西航港大道中四段219號

郵編:610207

電話:028-82820926 028-82820927 028-82820929

傳真:028-82820932 028-82820926

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